Cadre et contexte : L’alternance se déroulera au CEA-LETI à Grenoble, au sein des lignes de fabrication qui permettent une R&D avancée dans les domaines de la micro-électronique et des micro-systèmes. Vous travaillerez dans le Département des PlateFormesTechnologiques, au sein du Service Dépôts. Travail demandé : 1/ L’activité prioritaire consistera à réaliser des filtres interférentiels, par dépôt d’empilement de couches de matériaux diélectriques, dans une configuration « on-wafer-optics », afin de remplacer les solutions externes actuelles. Les difficultés techniques sont la réalisation de dépôts multi-couches uniformes et reproductibles avec des spécifications très agressives sur les propriétés optiques des matériaux déposés. La finalité étant d’optimiser la transmission du filtre dans des longueurs d’onde précises. Ces dépôts de multi-couches seront réalisés sur divers substrats communément utilisés dans l’industrie (silicium, verre, Si collé sur du verre, etc…). Vous intégrerez l’équipe projet, déjà en place, composée de spécialistes, en dépôt PECVD, en caractérisations de couches minces (réflectométrie, ellipsométrie, contraintes mécaniques, microscopie, contamination particulaire), et en optique. La mission se déroulera principalement en salle blanche, sur la ligne R&D 300mm. 2/ Après l’acquisition d’expérience et d’autonomie, vous pourrez vous voir confier d’autres développements de matériaux diélectriques, pour nos applications en micro-électronique et en photonique. Notamment, vous participerez activement au démarrage process de nouveaux équipements de dépôts diélectriques 300mm, récemment acquis ou en phase d’acquisition. Horaires : Le contrat d’alternance pourra être proposé, soit en horaire collectif  (lundi à vendredi de 7h55 - 16h35), soit en horaires postés 2x8 avec primes d’équipe (1 semaine de 4 matins de 5h à 13h15 + 1 semaine de 5 après-midis de 13h à 21h15).