Développement de solutions logicielles pour les procédés de photolithographie H/F - CEA
Alternance
Cadre et contexte : Le CEA-LETI est engagé dans le développement et l'intégration des nouvelles technologies pour l'industrie des semi-conducteurs. La lithographie est une étape fondamentale pour la réalisation des composants, et les développements R&D associés à cette étape doivent être traités avec rigueur pour en extraire un maximum d'informations. De nombreux scripts de traitements de données sont actuellement développés au sein du Laboratoire de PAtterning Computationnel (LPAC) pour répondre aux besoins d'ingénierie en lithographie. Actuellement sous forme de code Python, ces traitements pourraient être transformés en outils (packagés) et utilisés par beaucoup plus de monde dans un cadre opérationnel (Labo Lithographie Jour et équipes opérationnelles au sein du Leti). Une base commune d’outils de traitement permettrait, outre le fait d’aller plus vite et de ne pas tout redévelopper, de mieux interagir entre nous et de mieux capitaliser Travail demandé : Déployer les scripts LPAC aux acteurs opérationnels et engineering du service Patterning, soit à travers d’une interface spécifique ou par le biais de notebooks Jupyter. Co-construire et étendre le déploiement à des applications ciblées notamment un outil de traitement des fenêtres de procédés de lithographie.