
Développement de solutions logicielles pour les procédés de photolithographie H/F - CEA
- Alternance
Fonction : Non définie
Lieu : Non défini
Publiée : 04-04-2025
Date de début :
Fri, 04 Apr 2025 13:24:34 Z
Date de fin :
04 05 2025
Niveau d’expérience pour ce poste :
Rémunération comprise entre € et € par
Poste nécessitant d’avoir un Permis B :
Non
Référence interne : 273184&040425
Description de l'offre
Cadre et contexte :
Le CEA-LETI est engagé dans le développement et l'intégration des nouvelles technologies pour l'industrie des semi-conducteurs. La lithographie est une étape fondamentale pour la réalisation des composants, et les développements R&D associés à cette étape doivent être traités avec rigueur pour en extraire un maximum d'informations. De nombreux scripts de traitements de données sont actuellement développés au sein du Laboratoire de PAtterning Computationnel (LPAC) pour répondre aux besoins d'ingénierie en lithographie. Actuellement sous forme de code Python, ces traitements pourraient être transformés en outils (packagés) et utilisés par beaucoup plus de monde dans un cadre opérationnel (Labo Lithographie Jour et équipes opérationnelles au sein du Leti).
Une base commune d’outils de traitement permettrait, outre le fait d’aller plus vite et de ne pas tout redévelopper, de mieux interagir entre nous et de mieux capitaliser
Travail demandé :
Déployer les scripts LPAC aux acteurs opérationnels et engineering du service Patterning, soit à travers d’une interface spécifique ou par le biais de notebooks Jupyter. Co-construire et étendre le déploiement à des applications ciblées notamment un outil de traitement des fenêtres de procédés de lithographie.
Profil du candidat